簡(jiǎn)要描述:上海SGN技術(shù),*創(chuàng )意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。
改良型膠體磨,創(chuàng )新膠體磨,研磨分散膠體磨,研磨分散機,改進(jìn)型膠體磨
上海SGN技術(shù),*創(chuàng )意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。
改良型膠體磨,這種*的設計,放眼世界,獨上海SGN一家,咨詢(xún)
SGN改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機,簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機,合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機的功能,并且減少了膠體磨和分散機串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講,原先兩臺設備的價(jià)格,現在用一臺研磨分散機就可以完成,性?xún)r(jià)比更高。
GMD2000系列,研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
GMD2000系列,研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
GMD2000系列,研磨分散機的特點(diǎn):
① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列改進(jìn)型膠體磨設備選型表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。
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改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機,研磨均質(zhì)機,研磨乳化機,全新的設計理念,超高設備剪切力,以及穩定的設備運行,SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設備服務(wù)!
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